neuPas Normal Studios Unisex Off-Race Stow Away Jacket

Art. Nr. NC2074G

Die Off-Race Stow Away Jacket ist inspiriert von unserer Stow Away-Kollektion für Bekleidung auf dem Rad und bietet außergewöhnliche Zuverlässigkeit und Schutz vor dem unzuverlässigsten Wetter.

Gekleidet in ein fein gestricktes, gewebtes Nylon und vervollständigt mit einem DWR-Finish, bietet die Jacke natürliche wind- und wasserabweisende Eigenschaften, während sie mit einem stilvollen, matten Finish präsentiert wird. Mit elastischen Abschlüssen am Saum, an den Ärmelbündchen und an der Kapuze sowie einem einfachen, versteckten Kordelzug auf der Rückseite der Kapuze liegt die Jacke eng am Körper an und verhindert das Eindringen von Wind und Feuchtigkeit.

BlackBlackdark olivedark olive
XXSMLXLXXL

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200,00 € *
Anzahl:
Farbe:Black
Größe:M
Saison:Herbst/Winter
Jahr:2021/22
Marke:Pas Normal Studios
Geschlecht:Unisex
Pflegehinweis:Handwäsche
Einsatzgebiet:Rennrad

Beschreibung

Produktdetails:

  • Wind- und wasserabweisendes Gewebe mit DWR-Beschichtung
  • Leichtes 60 g/m²-Nylon
  • Drei überlappende Reißverschlusstaschen
  • Kordelzug an Saum und Kapuze
  • Aufgedruckte Logos von Pas Normal Studios auf der Brust und über der Gesäßtasche
  • Doppelter YKK-Frontreißverschluss mit Road to Nowhere-Reißverschlüssen
  • Neu gestaltete Reißverschlüsse und Reißverschlüsse für die Taschen
  • Hergestellt in Taiwan

Variantenübersicht

 XXSMLXLXXL
BlackAusverkauft1-4 Tage1-4 Tage1-4 TageAusverkauft
dark oliveAusverkauftAusverkauft1-4 TageAusverkauft1-4 Tage

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